Gaufrette polie de carbure de silicium 4h-semi de DSP 2inch 3inch 4Inch 0.35mm sic
Détails sur le produit:
Lieu d'origine: | La Chine |
Nom de marque: | ZMKJ |
Numéro de modèle: | Taille adaptée aux besoins du client |
Conditions de paiement et expédition:
Quantité de commande min: | 5pcs |
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Prix: | by case |
Détails d'emballage: | paquet simple de gaufrette dans la pièce de nettoyage de 100 catégories |
Délai de livraison: | 1-6weeks |
Conditions de paiement: | T/T, Western Union, MoneyGram |
Capacité d'approvisionnement: | 1-50pcs/month |
Détail Infomation |
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Matériel: | Monocristal sic 4h-semi | Catégorie: | essai catégorie |
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Thicnkss: | 0.35mm ou 0.5mm | Suraface: | DSP poli |
Application: | épitaxial | Diamètre: | 3inch |
Couleur: | Transparent | MPD: | <10cm-2> |
Type: | grande pureté non dopée | Résistivité: | >1E7 O.hm |
Surligner: | gaufrette de carbure de silicium de 0.35mm,Gaufrette de carbure de silicium de 4 pouces,Sic gaufrette de carbure de silicium |
Description de produit
Gaufrettes non dopées de la grande pureté 4H-semi resistivity>1E7 3inch 4inch 0.35mm de lingots de Customzied size/2inch/3inch/4inch/6inch 6H-N/4H-SEMI/4H-N SIC/de substrats wafersS/de monocristal de carbure de silicium du diamètre 150mm grande pureté 4H-N 4inch 6inch (sic) sic
Au sujet du cristal de carbure de silicium (sic)
Le carbure de silicium (sic), également connu sous le nom de carborundum, est un semi-conducteur contenant le silicium et le carbone avec la formule chimique sic. Sic est employé dans des dispositifs de l'électronique de semi-conducteur qui fonctionnent aux hautes températures ou aux tensions élevées, ou both.SiC est également l'un des composants importants de LED, c'est un substrat populaire pour élever des dispositifs de GaN, et il sert également d'écarteur de la chaleur dans la LED de haute puissance.
Propriété | 4H-SiC, monocristal | 6H-SiC, monocristal |
Paramètres de trellis | a=3.076 Å c=10.053 Å | a=3.073 Å c=15.117 Å |
Empilement de l'ordre | ABCB | ABCACB |
Dureté de Mohs | ≈9.2 | ≈9.2 |
Densité | 3,21 g/cm3 | 3,21 g/cm3 |
Therm. Coefficient d'expansion | 4-5×10-6/K | 4-5×10-6/K |
Index @750nm de réfraction |
aucun = 2,61 |
aucun = 2,60 |
Constante diélectrique | c~9.66 | c~9.66 |
ohm.cm (de type n et 0,02) de conduction thermique |
a~4.2 W/cm·K@298K |
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Conduction thermique (semi-isolante) |
a~4.9 W/cm·K@298K |
a~4.6 W/cm·K@298K |
Bande-Gap | eV 3,23 | eV 3,02 |
Champ électrique de panne | 3-5×106V/cm | 3-5×106V/cm |
Vitesse de dérive de saturation | 2.0×105m/s | 2.0×105m/s |
Spécifications de substrat de carbure de silicium de diamètre de 4H-N 4inch (sic)
spécifications de substrat de carbure de silicium du diamètre 2inch (sic) | ||||||||||
Catégorie | Catégorie zéro de MPD | Catégorie de production | Catégorie de recherches | Catégorie factice | ||||||
Diamètre | 100. mm±0.38mm | |||||||||
Épaisseur | 350 μm±25μm ou 500±25um ou toute autre épaisseur adaptée aux besoins du client | |||||||||
Orientation de gaufrette | Sur l'axe : <0001> ±0.5° pour 4h-semi | |||||||||
Densité de Micropipe | cm2 ≤1 | cm2 ≤5 | ≤10cm-2 | cm2 ≤30 | ||||||
Résistivité | 4H-N | 0.015~0.028 Ω•cm | ||||||||
6H-N | 0.02~0.1 Ω•cm | |||||||||
4h-semi | ≥1E7 Ω·cm | |||||||||
Appartement primaire | {10-10} ±5.0° | |||||||||
Longueur plate primaire | 18,5 mm±2.0 millimètre | |||||||||
Longueur plate secondaire | 10.0mm±2.0 millimètre | |||||||||
Orientation plate secondaire | Silicium récepteur : Onde entretenue de 90°. de ±5.0° plat principal | |||||||||
Exclusion de bord | 1 millimètre | |||||||||
TTV/Bow /Warp | ≤10μm/≤15μm/≤30μm | |||||||||
Rugosité | Ra≤1 polonais nanomètre | |||||||||
CMP Ra≤0.5 nanomètre | ||||||||||
Fissures par la lumière de forte intensité | Aucun | 1 laissé, ≤2 millimètre | ≤ cumulatif 10mm, length≤2mm simple de longueur | |||||||
Plats de sortilège par la lumière de forte intensité | Secteur cumulatif ≤1% | Secteur cumulatif ≤1% | Secteur cumulatif ≤3% | |||||||
Régions de Polytype par la lumière de forte intensité | Aucun | Secteur cumulatif ≤2% | Secteur cumulatif ≤5% | |||||||
Éraflures par la lumière de forte intensité | 3 éraflures à la longueur cumulative du diamètre 1×wafer | 5 éraflures à la longueur cumulative du diamètre 1×wafer | 5 éraflures à la longueur cumulative du diamètre 1×wafer | |||||||
puce de bord | Aucun | 3 laissés, ≤0.5 millimètre chacun | 5 laissés, ≤1 millimètre chacun | |||||||
Applications :
1) Dépôt de nitrure d'III-V
2) Dispositifs optoélectroniques
3) Dispositifs de haute puissance
4) Dispositifs à hautes températures
5) Dispositifs de puissance à haute fréquence
Exposition d'affichage de production
4 H-N Type/gaufrette/lingots grande pureté sic
2 gaufrette/lingots de type n de pouce 4H sic
3 gaufrette de type n de pouce 4H sic 4 gaufrette/lingots de type n de pouce 4H sic 6 gaufrette/lingots de type n de pouce 4H sic |
gaufrette pureté semi-isolante/grande de 4H sic 2 gaufrette semi-isolante de pouce 4H sic
3 gaufrette semi-isolante de pouce 4H sic 4 gaufrette semi-isolante de pouce 4H sic 6 gaufrette semi-isolante de pouce 4H sic |
sic gaufrette 6H de type n
2 gaufrette/lingot de type n de pouce 6H sic |
Taille de Customzied pour 2-6inch
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Sic applications
Domaines d'application
- diodes de Schottky d'appareils électroniques de 1 puissance à haute fréquence et élevée, JFET, BJT, PiN,
- diodes, IGBT, transistor MOSFET
- 2 dispositifs optoélectroniques : principalement utilisé en GaN/matériel sic bleu de substrat de LED (GaN/sic) LED
>Emballage – Logistcs
nous concerne chacun des détails du paquet, nettoyage, antistatique, traitement de choc.
Selon la quantité et la forme du produit, nous prendrons un processus de empaquetage différent ! Presque par les cassettes de gaufrette ou la cassette 25pcs simples dans la pièce de nettoyage de 100 catégories.