Plateau en céramique de carbure de silicium (SiC) pour traitement à haute température

Résumé

Les plateaux en céramique au carbure de silicium (SiC) sont des supports de haute performance conçus pour des environnements thermiques, chimiques et mécaniques exigeants.et stabilité à températures élevéesLes plateaux en SiC sont devenus une solution préférée pour le traitement des semi-conducteurs, la fabrication de LED, le frittage avancé des matériaux et les applications thermiques de haute pureté.Leurs caractéristiques de durabilité et de faible contamination assurent une fiabilité constante du processus et une longue durée de vie.

Propriétés matérielles

Les céramiques au carbure de silicium offrent une combinaison de résistances physiques et chimiques qui surpassent les plateaux d'alumine et de quartz conventionnels:

• Résistance à haute température:Des performances stables au-dessus de 1600°1700°C, adaptées aux fours à haute température.

• Excellente résistance aux chocs thermiques:Cycles rapides de chauffage et de refroidissement sans fissuration.

• Dureté élevée et résistance à l'usure:Prolonge la durée de vie sous contrainte mécanique.

• Faible expansion thermique (CTE):Assure la stabilité dimensionnelle pendant le cycle thermique.

• Conductivité thermique élevée:Favorise une distribution uniforme de la chaleur, améliorant la consistance du frittage.

• Résistant à la corrosion et à l'oxydation:Réduit considérablement le risque de contamination.

• Faible dégagement:Convient pour les procédés ultra-propres.

Processus de fabrication

Les plateaux en céramique SiC sont généralement fabriqués parSintrage sans pression,Liens de réaction (RBSiC), oudépôt de vapeur chimique (CVD-SiC)en fonction des exigences de pureté et de performance:

• RBSiC (SiC lié par réaction):Haute résistance, excellentes propriétés de choc thermique, rentable.

• SSiC (SiC sintré):Plus de pureté, plus de densité, meilleure stabilité chimique, idéal pour les semi-conducteurs.

• Le revêtement CVD-SiC:Fournit des surfaces extrêmement pures, sans pores et résistantes à la corrosion pour les procédés avancés de wafer.

Chaque voie de production assure une grande uniformité, un contrôle dimensionnel précis et une géométrie personnalisable.

Principales applications

Les plateaux en céramique SiC sont largement utilisés dans plusieurs industries:

Semi-conducteurs et microélectronique

• Chargement des plaquettes, traitement à haute température, support LPCVD/PECVD

• Diffusion, oxydation, processus thermiques rapides

• Plateformes de transport et de transport de matières de haute pureté

Fabrication de LED et d'optoélectronique

• Sintrage et recuit de plaques de saphir, de GaN et de SiC

• Epitaxie et traitement thermique à haute température

Métallurgie des poudres et frittage

• Ceramiques, matériaux magnétiques et frittage en poudre métallique

• Porteurs et séparateurs de fours à haute température

Batterie au lithium et matériaux avancés

• Calcination en poudre, phosphatation, revêtement à haute température

• Armatures de support pour les matériaux à énergie avancée

Fours industriels généraux

• Cuisson à haute température, traitement thermique, cycle thermique

Avantages des plateaux en céramique SiC

Comparés aux plateaux traditionnels en graphite, en aluminium ou en métal, les plateaux en céramique SiC offrent des avantages importants:

• Durée de vie plus longuedans des cycles à haute température répétés

• Moins de contamination, assurant une qualité de processus stable

• Résistance mécanique plus élevéepour résister à la déformation

• Conductivité thermique uniformepour améliorer la consistance du produit

• Conception personnalisable, y compris les fentes, trous, rainures et géométries complexes

• Compatible avec les salles blanches et les environnements sous vide

Spécifications disponibles

Nous proposons des plateaux standard et sur mesure, y compris:

• Plateaux à plat, plateaux poreux, plateaux en grille

• Les dimensions:Les tailles courantes comprennent 100 à 500 mm; personnalisables

• Épaisseur:3×20 mm ou sur demande du client

• Options de matériaux:Les éléments de référence sont les suivants:

• Finition de surface:Polissage, revêtement CVD, déchiquetage, marquage au laser

Les services OEM/ODM personnalisés sont pris en charge pour les modèles de fours spéciaux, les systèmes automatisés ou les lignes de production spécifiques.

Questions fréquentes

Q1: Quelle est la différence entre les plateaux RBSiC et SSiC?

Le RBSiC offre une excellente résistance mécanique à moindre coût, tandis que le SSiC offre une plus grande pureté, une meilleure résistance à la corrosion et est idéal pour les environnements de semi-conducteurs.

Q2: Les plateaux en SiC peuvent-ils résister à un cycle thermique rapide?

Le SiC a une excellente résistance aux chocs thermiques, ce qui le rend adapté aux processus de chauffage et de refroidissement rapides.

Q3: La forme du plateau peut-elle être personnalisée?

Nous pouvons produire des plateaux avec des géométries complexes, y compris des rainures, des trous, des bordures et des structures multicouches.

Q4: Le SiC contaminera-t-il les produits en fonctionnement à haute température?

Le SiC est chimiquement stable, résistant à l'oxydation et a une faible émission de gaz, ce qui garantit une faible contamination.

Q5: Les plateaux en SiC nécessitent-ils une méthode de nettoyage spécifique?

Le nettoyage dépend de la qualité du matériau: le SSiC et le CVD-SiC permettent un nettoyage acide/base; le RBSiC nécessite des méthodes plus douces pour éviter toute altération de la surface.

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À propos de nous

ZMSH est spécialisée dans le développement de haute technologie, la production et la vente de verre optique spécial et de nouveaux matériaux cristallins.Nous offrons des composants optiques SapphireAvec une expertise qualifiée et des équipements de pointe, nous excellons dans le traitement de produits non standard.,L'objectif est d'être une entreprise de haute technologie de matériaux optoélectroniques de premier plan.