• LNOI Wafer Niobate de lithium sur isolant 2/3/4/6/8 pouces LN Substrate
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LNOI Wafer Niobate de lithium sur isolant 2/3/4/6/8 pouces LN Substrate

LNOI Wafer Niobate de lithium sur isolant 2/3/4/6/8 pouces LN Substrate

Détails sur le produit:

Lieu d'origine: Chine
Nom de marque: ZMSH
Numéro de modèle: 2°/3°/4°/6°/8°

Conditions de paiement et expédition:

Quantité de commande min: 2
Prix: 200 USD
Détails d'emballage: cartons sur mesure
Delivery Time: 2-3 weeks
Conditions de paiement: T/T
Capacité d'approvisionnement: par cas
meilleur prix Contact

Détail Infomation

Matériel: LiNbO3 Diamètre/taille: 2°/3°/4°/6°/8°
Angle de coupe: X/Y/Z, etc. TTV: <3>
Faites une fleur.: -30 La distorsion.: < 40 μm
Mettre en évidence:

2 pouces de niobate de lithium sur isolant

,

4 pouces de niobate de lithium sur isolant

,

8 pouces de niobate de lithium sur isolant

Description de produit

Plaquette LNOI (Niobate de lithium sur isolant) 2/3/4/6/8 pouces Substrat Si/LN

Introduction de Plaquette LNOI
Les plaquettes LNOI (Niobate de lithium sur isolant) sont un matériau de pointe utilisé dans le développement de dispositifs photoniques et quantiques avancés. Ces plaquettes sont fabriquées en collant une fine couche de niobate de lithium (LiNbO₃) sur un substrat isolant, généralement du silicium, grâce à des procédés spécialisés comme l'implantation ionique et le collage de plaquettes. Les plaquettes LNOI héritent des propriétés optiques et piézoélectriques exceptionnelles du niobate de lithium, ce qui les rend indispensables pour les applications haute performance en optique intégrée, télécommunications et technologies quantiques. Cet article explore les principes fondamentaux, les applications clés et les questions fréquemment posées sur les plaquettes LNOI.

 

LNOI Wafer Niobate de lithium sur isolant 2/3/4/6/8 pouces LN Substrate 0LNOI Wafer Niobate de lithium sur isolant 2/3/4/6/8 pouces LN Substrate 1

 


 

Principe de fabrication des plaquettes LNOI :
Le processus de création des plaquettes LNOI est complexe et implique plusieurs étapes critiques pour garantir la haute qualité et la fonctionnalité du produit final. Voici une présentation des étapes clés :

 

LNOI Wafer Niobate de lithium sur isolant 2/3/4/6/8 pouces LN Substrate 2

 

 

  1. Implantation ionique :
    Le processus de fabrication commence par un cristal de niobate de lithium en vrac. Des ions hélium (He) de haute énergie sont implantés dans la surface du cristal. L'énergie et la profondeur des ions déterminent l'épaisseur de la couche de niobate de lithium. Cette implantation ionique crée un plan fragile à l'intérieur du cristal, qui peut être séparé lors des étapes ultérieures du processus pour obtenir un film mince de niobate de lithium de haute qualité.

  2. Collage au substrat :
    Une fois le processus d'implantation ionique terminé, la couche de niobate de lithium (qui a été affaiblie par les ions) est collée à un substrat isolant, généralement du silicium. Cela se fait en utilisant des techniques de collage direct de plaquettes, où les surfaces sont pressées ensemble à haute pression et température. La liaison résultante forme une interface stable entre la fine couche de niobate de lithium et le substrat de support.

  3. Recuit et séparation des couches :
    Après le collage, la plaquette subit un processus de recuit, qui permet de réparer tout dommage causé par l'implantation ionique. L'étape de recuit favorise également la séparation de la couche supérieure de niobate de lithium du cristal en vrac. Il en résulte une couche mince de niobate de lithium de haute qualité sur le substrat, ce qui est essentiel pour son utilisation dans diverses applications photoniques et quantiques.

  4. Polissage chimico-mécanique (CMP) :
    Pour obtenir la qualité et la planéité de surface souhaitées, la plaquette subit un polissage chimico-mécanique (CMP). Le CMP lisse toute rugosité sur la surface, garantissant que la plaquette finale répond aux exigences strictes pour une utilisation dans les dispositifs photoniques haute performance. Cette étape est essentielle pour garantir des performances optiques optimales et réduire les défauts.


 

Spécification de Plaquette LNOI

 

 

Matériau Optique Qualité LiNbO3 plaquettes
Curie Température 1142±0.7℃
Coupe Angle X/Y/Z etc
Diamètre/taille 2”/3”/4”/6"/8”
Tol(±) <0.20 mm ±0.005mm
Épaisseur 0.18~0.5mm ou plus
Principal Plat 16mm/22mm/32mm
TTV <3μm
Flèche -30
Voile <40μm
Orientation Plat Tous disponibles
Surface Type Simple face polie (SSP)/Double faces polies (DSP)
Poli côté Ra <0.5nm
S/D 20/10
Bord Critères R=0.2mm Type C ou Bullnose
Qualité Sans fissure (bulles et inclusions)
Optique dopé Mg/Fe/Zn/MgO etc pour qualité optique LN< plaquettes par demande
Plaquette Surface Critères Indice de réfraction No=2.2878/Ne=2.2033 @632nm longueur d'onde/méthode du coupleur à prisme.
Contamination, Aucun
Particules c>0.3μ m <=30
Rayures, Écaillage Aucun
Défaut Pas de fissures de bord, rayures, marques de scie, taches
Emballage Qté/Boîte de plaquettes 25 pièces par boîte

 


 

Applications des plaquettes LNOI :
Les plaquettes LNOI sont utilisées dans divers domaines, en particulier ceux qui nécessitent des propriétés de matériaux avancées pour les applications photoniques, quantiques et à haute vitesse. Voici les principaux domaines où les plaquettes LNOI sont indispensables :

 

LNOI Wafer Niobate de lithium sur isolant 2/3/4/6/8 pouces LN Substrate 3

  1. Optique intégrée :
    Les plaquettes LNOI sont largement utilisées en optique intégrée, où elles servent de base aux dispositifs photoniques tels que les modulateurs, les guides d'ondes et les résonateurs. Ces dispositifs sont cruciaux pour manipuler la lumière au niveau du circuit intégré, permettant la transmission de données à haut débit, le traitement du signal et les applications optiques avancées.

  2. Télécommunications :
    Les plaquettes LNOI jouent un rôle essentiel dans les télécommunications, en particulier dans les systèmes de communication optique. Elles sont utilisées pour créer des modulateurs optiques, qui sont des composants essentiels pour les réseaux de fibres optiques à haut débit. Les propriétés électro-optiques exceptionnelles de LNOI permettent une modulation précise de la lumière à hautes fréquences, ce qui est essentiel pour les systèmes de communication modernes.

  3. Informatique quantique :
    Les plaquettes LNOI sont un matériau idéal pour les technologies quantiques en raison de leur capacité à générer des paires de photons intriqués, qui sont essentielles pour la distribution quantique de clés (QKD) et la cryptographie quantique. Leur intégration dans les systèmes informatiques quantiques permet le développement de circuits photoniques avancés, qui sont essentiels pour l'avenir de l'informatique et des technologies de communication quantiques.

  4. Technologies de détection :
    Les plaquettes LNOI sont également utilisées dans les applications de détection optique et acoustique. La capacité des plaquettes à interagir avec la lumière et le son les rend précieuses pour les capteurs utilisés dans le diagnostic médical, la surveillance environnementale et les tests industriels. Leur haute sensibilité et leur stabilité garantissent des mesures précises, ce qui les rend essentielles dans ces domaines.


 

FAQ de Plaquette LNOI

  1. De quoi sont faites les plaquettes LNOI ?
    Les plaquettes LNOI sont constituées d'une fine couche de niobate de lithium (LiNbO₃) collée à un substrat isolant, généralement du silicium. La couche de niobate de lithium offre d'excellentes propriétés optiques et piézoélectriques, ce qui la rend idéale pour diverses applications haute performance.

  2. En quoi les plaquettes LNOI sont-elles différentes des plaquettes SOI ?
    Bien que les plaquettes LNOI et SOI soient constituées d'un film mince collé à un substrat isolant, LNOI utilise le niobate de lithium comme matériau de film mince, tandis que les plaquettes SOI utilisent le silicium. Le niobate de lithium offre des propriétés optiques non linéaires supérieures, ce qui rend les plaquettes LNOI plus adaptées aux applications telles que l'informatique quantique et la photonique avancée.

  3. Quels sont les principaux avantages de l'utilisation des plaquettes LNOI ?
    Les principaux avantages des plaquettes LNOI incluent leurs coefficients électro-optiques élevés, qui permettent une modulation efficace de la lumière, ainsi que leur résistance mécanique, qui assure la stabilité pendant le fonctionnement de l'appareil. Ces propriétés rendent les plaquettes LNOI idéales pour les applications optiques et quantiques à haut débit.

 

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