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LNOI
Détails sur le produit:
| Place of Origin: | China |
| Nom de marque: | ZMSH |
| Model Number: | 2”/3”/4”/6“/8” |
Conditions de paiement et expédition:
| Minimum Order Quantity: | 2 |
|---|---|
| Delivery Time: | 2-3 weeks |
| Payment Terms: | T/T |
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Détail Infomation |
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| Material: | Optical Grade LiNbO3 wafes | Diameter/size: | 2”/3”/4”/6“/8” |
|---|---|---|---|
| Cutting Angle: | X/Y/Z etc | TTV: | <3μm |
| Bow: | -30| Warp: |
<40μm |
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Description de produit
Je vous présente
Les cristaux LiNbO3 sont largement utilisés comme doublageurs de fréquence pour les oscillateurs à longueur d'onde > 1um et les oscillateurs paramétriques optiques (OPO) pompés à 1064 nm ainsi que les dispositifs de quasi-matchage de phase (QPM).En raison de ses grands coefficients électro-optique (E-O) et acousto-optique (A-O)Le cristal LiNbO3 est le matériau le plus couramment utilisé pour les cellules de Pockel, les commutateurs Q et les modulateurs de phase, le substrat de guidage d'onde et les plaquettes d'onde acoustique de surface (SAW), etc.
Notre abondante expérience dans la culture et la production de masse pour le niobate de lithium de qualité optique sur les boules et les wafers.,Les produits finis sont soumis à un contrôle de qualité strict et sont inspectés.Et aussi sous le nettoyage de surface strict et contrôle de la planéité ainsi.
Spécification
| Matériel | Optique Grade LiNbO3 les galettes (blancs) ou Noir) | |
| Curie Temp | 1142 ± 0,7°C | |
| Coupe Angle | X/Y/Z, etc. | |
| Diamètre/taille | 2 ′′/3 ′′/4 ′′/6 ′′/8 ′′ | |
| Tol ((±) | Pour les appareils de traitement des eaux usées | |
| Épaisseur | 0.18·0,5 mm ou plus | |
| Les premières À plat | 16 mm/22 mm/32 mm | |
| TTV | 3 μm | |
| Faites une fleur. | - 30 ans | |
| La distorsion. | < 40 μm | |
| Les orientations À plat | Tout est disponible | |
| Surface Le type | L'équipement doit être équipé d'un dispositif de détection de la pollution atmosphérique (PDE) et d'un dispositif de détection de la pollution atmosphérique (PDE). | |
| Polissés côté Ra | < 0,5 nm | |
| R/D | 20/10 | |
| Le bord Les critères | R=0,2 mm type C ou Bullnose | |
| Qualité | Ne contenant pas de fissures (bulles et inclusions) | |
| Optique déshydraté | Mg/Fe/Zn/MgO, etc. pour les plaquettes de qualité optique LN< par demande | |
| Des plaquettes Surface Les critères | Indice de réfraction | No=2.2878/Ne=2.2033 @632nm longueur d'onde/méthode d'accouplement par prisme. |
| La contamination, | Aucune | |
| Particules c> 0,3 μm - Je vous en prie | Le montant de l'aide | |
| Des rayures, des éclats. | Aucune | |
| Défaut | Aucune fissure, aucune égratignure, aucune tache. | |
| Emballage | Qty/boîte à gaufres | 25 pièces par boîte |
Les propriétés.
La fabrication de plaquettes de niobate de lithium sur isolant (LNOI) implique une série d'étapes sophistiquées qui combinent la science des matériaux et des techniques de fabrication avancées.Le processus vise à créer une, un film de niobate de lithium (LiNbO3) de haute qualité lié à un substrat isolant, tel que le silicium ou le niobate de lithium lui-même.
Étape 1: Implantation ionique
La première étape de la production de gaufres LNOI implique l'implantation d'ions.La machine d'implantation d'ions accélère les ions hélium, qui pénètrent le cristal de niobate de lithium à une profondeur spécifique.
L'énergie des ions hélium est soigneusement contrôlée pour atteindre la profondeur désirée dans le cristal.provoquant des perturbations atomiques qui conduisent à la formation d'un plan affaibliCette couche permettra finalement au cristal d'être scindé en deux couches distinctes,où la couche supérieure (appelée couche A) devient le film mince de niobate de lithium nécessaire à la LNOI.
L'épaisseur de ce film mince est directement influencée par la profondeur d'implantation, qui est contrôlée par l'énergie des ions hélium.qui est crucial pour assurer l'uniformité dans le film final.
Étape 2: préparation du substrat
Une fois le processus d'implantation ionique terminé, l'étape suivante consiste à préparer le substrat qui soutiendra le mince film de niobate de lithium.Les matériaux de substrat courants comprennent le silicium (Si) ou le niobate de lithium (LN) lui-mêmeLe substrat doit fournir un support mécanique pour le film mince et assurer une stabilité à long terme pendant les étapes de traitement suivantes.
Pour préparer le substrat, a SiO₂ (silicon dioxide) insulating layer is typically deposited onto the surface of the silicon substrate using techniques such as thermal oxidation or PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition)Cette couche sert de milieu isolant entre le film de niobate de lithium et le substrat de silicium.un procédé de polissage chimique mécanique (CMP) est appliqué pour garantir que la surface est uniforme et prête pour le processus de collage.
Étape 3: Liage à l'aide d'un film mince
Après préparation du substrat, l'étape suivante consiste à attacher le film mince de niobate de lithium (couche A) au substrat.est retourné à 180 degrés et placé sur le substrat préparéLe processus de collage est généralement effectué à l'aide d'une technique de collage de plaquette.
Lors de la liaison des plaquettes, le cristal de niobate de lithium et le substrat sont soumis à une pression et à une température élevées, ce qui provoque une forte adhérence des deux surfaces.Le procédé de collage direct ne nécessite généralement pas de matériaux adhésifsÀ des fins de recherche, le benzocyclobutène (BCB) peut être utilisé comme matériau de liaison intermédiaire pour fournir un support supplémentaire,bien qu'il ne soit généralement pas utilisé dans la production commerciale en raison de sa stabilité à long terme limitée.
Étape 4: recuit et séparation des couches
Après le processus de liaison, la gaufre liée est soumise à un traitement de recuit.ainsi que pour réparer tout dommage causé par le processus d'implantation ionique.
Au cours du recuit, la gaufre est chauffée à une température spécifique et maintenue à cette température pendant une certaine durée.Ce processus renforce non seulement les liaisons interfaciales, mais induit également la formation de microbulles dans la couche implantée d'ionsCes bulles provoquent progressivement la séparation de la couche de niobate de lithium (couche A) du cristal de niobate de lithium en vrac d'origine (couche B).
Une fois la séparation effectuée, des outils mécaniques sont utilisés pour séparer les deux couches, laissant un film mince de niobate de lithium de haute qualité (couche A) sur le substrat.La température est progressivement ramené à la température ambiante, complétant le processus de recuit et de séparation des couches.
Étape 5: Planarisation du CMP
Après la séparation de la couche de niobate de lithium, la surface de la plaque LNOI est généralement rugueuse et inégale.la gaufre est soumise à un processus de polissage chimique mécanique (CMP) final. Le CMP lissé la surface de la gaufre, en éliminant toute rugosité restante et en veillant à ce que le film mince est plan.
Le procédé CMP est essentiel pour obtenir une finition de haute qualité sur la gaufre, ce qui est essentiel pour la fabrication ultérieure du dispositif.souvent avec une rugosité (Rq) inférieure à 0.5 nm mesurés par microscopie de la force atomique (AFM).
Applications des plaquettes de LNOI
Les plaquettes LNOI (Lithium Niobate on Insulator) sont utilisées dans un large éventail d'applications avancées en raison de leurs propriétés exceptionnelles.comprenant des coefficients optiques non linéaires élevés et de fortes caractéristiques mécaniquesDans l'optique intégrée, les wafers LNOI sont essentielles pour créer des dispositifs photoniques tels que des modulateurs, des guides d'onde et des résonateurs, qui sont essentiels pour manipuler la lumière dans les circuits intégrés.Dans les télécommunicationsLes wafers LNOI sont largement utilisées dans les modulateurs optiques, qui permettent une transmission de données à grande vitesse dans les réseaux à fibre optique.Les wafers LNOI jouent un rôle essentiel dans la génération de paires de photons enchevêtréesEn outre, les plaquettes LNOI sont utilisées dans diverses applications de capteurs,lorsqu'ils sont utilisés pour créer des capteurs optiques et acoustiques très sensibles pour la surveillance de l'environnementCes applications diverses font des plaquettes LNOI un matériau clé dans le développement de technologies de nouvelle génération dans de multiples domaines.
Questions fréquentes
Q: Qu'est-ce que le LNOI?
R: LNOI est l'abréviation de Niobate de lithium sur isolant.Il s'agit d'un type de plaquette qui comporte une fine couche de niobate de lithium (LiNbO3) liée à un substrat isolant tel que le silicium ou un autre matériau isolantLes plaquettes LNOI conservent les excellentes propriétés optiques, piézoélectriques et pyroélectriques du niobate de lithium, ce qui les rend idéales pour une utilisation dans diverses technologies photoniques, de télécommunications et quantiques.
Q: Quelles sont les principales applications des plaquettes LNOI?
R: Les plaquettes LNOI sont utilisées dans une variété d'applications, y compris l'optique intégrée pour les appareils photoniques, les modulateurs optiques dans les télécommunications, la génération de photons enchevêtrés dans l'informatique quantique,et dans les capteurs pour les mesures optiques et acoustiques dans la surveillance de l'environnement, le diagnostic médical et les tests industriels.
Q: Comment sont fabriquées les plaquettes LNOI?
R:La fabrication des plaquettes LNOI implique plusieurs étapes, y compris l'implantation d'ions, la liaison de la couche de niobate de lithium à un substrat (généralement du silicium), le recuit pour la séparation,et le polissage chimique mécanique (CMP) pour obtenir unL'implantation d'ions crée une couche mince et fragile qui peut être séparée du cristal de niobate de lithium en vrac, laissant derrière elle une fine couche,un film de niobate de lithium de haute qualité sur le substrat.
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