substrat de H-N Type Sic de la gaufrette 4 de 6inch dia150mm SIC pour le dispositif de MOS
Détails sur le produit:
Lieu d'origine: | LA CHINE |
Nom de marque: | ZMKJ |
Numéro de modèle: | gaufrettes de 6inch 4h-n sic |
Conditions de paiement et expédition:
Quantité de commande min: | 5pcs |
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Prix: | by case |
Détails d'emballage: | paquet simple de gaufrette dans la pièce de nettoyage de 100 catégories |
Délai de livraison: | 1-6weeks |
Conditions de paiement: | T/T, Western Union, MoneyGram |
Capacité d'approvisionnement: | 1-50pcs/month |
Détail Infomation |
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Matériel: | Monocristal sic 4h-N | Catégorie: | Catégorie de production |
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Thicnkss: | 0.4mm | Suraface: | a enroulé |
Application: | pour l'essai polonais | Diamètre: | 6inch |
Couleur: | Vert | MPD: | <2cm-2> |
Surligner: | 4 gaufrettes épitaxiales de H-N Type,Gaufrettes épitaxiales de 6 pouces,Gaufrette d'epi de 4 H-N Type |
Description de produit
épaisseur de la gaufrette 1mm de graine de 4h-n 4inch 6inch dia100mm sic pour la croissance de lingot
De Customzied size/2inch/3inch/4inch/6inch 6H-N/4H-SEMI/4H-N SIC de lingots/de substrats wafersS/Customzied de monocristal de carbure de silicium du diamètre 150mm grande pureté 4H-N 4inch 6inch (sic) de comme-coupe gaufrettes de la catégorie 4H-N 1.5mm SIC du wafersProduction 4inch sic pour le cristal de graine
couche sic épitaxiale de GaN de gaufrettes de catégorie de production de H-N Type de la gaufrette 4 de 6inch SIC dessus sic
Au sujet du cristal de carbure de silicium (sic)
Le carbure de silicium (sic), également connu sous le nom de carborundum, est un semi-conducteur contenant le silicium et le carbone avec la formule chimique sic. Sic est employé dans des dispositifs de l'électronique de semi-conducteur qui fonctionnent aux hautes températures ou aux tensions élevées, ou both.SiC est également l'un des composants importants de LED, c'est un substrat populaire pour élever des dispositifs de GaN, et il sert également d'écarteur de la chaleur dans la LED de haute puissance.
Propriété | 4H-SiC, monocristal | 6H-SiC, monocristal |
Paramètres de trellis | a=3.076 Å c=10.053 Å | a=3.073 Å c=15.117 Å |
Empilement de l'ordre | ABCB | ABCACB |
Dureté de Mohs | ≈9.2 | ≈9.2 |
Densité | 3,21 g/cm3 | 3,21 g/cm3 |
Therm. Coefficient d'expansion | 4-5×10-6/K | 4-5×10-6/K |
Index @750nm de réfraction |
aucun = 2,61 |
aucun = 2,60 |
Constante diélectrique | c~9.66 | c~9.66 |
ohm.cm (de type n et 0,02) de conduction thermique |
a~4.2 W/cm·K@298K |
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Conduction thermique (semi-isolante) |
a~4.9 W/cm·K@298K |
a~4.6 W/cm·K@298K |
Bande-Gap | eV 3,23 | eV 3,02 |
Champ électrique de panne | 3-5×106V/cm | 3-5×106V/cm |
Vitesse de dérive de saturation | 2.0×105m/s | 2.0×105m/s |
Sic applications
Domaines d'application
- diodes de Schottky d'appareils électroniques de 1 puissance à haute fréquence et élevée, JFET, BJT, PiN,
- diodes, IGBT, transistor MOSFET
- 2 dispositifs optoélectroniques : principalement utilisé en GaN/matériel sic bleu de substrat de LED (GaN/sic) LED
Spécifications de substrat de carbure de silicium de diamètre de 4H-N 4inch (sic)
sic caractéristiques de type n des substrats 6inch | ||||
Propriété | Catégorie de PMOS | Catégorie de P-SBD | Catégorie de D | |
Crystal Specifications | ||||
Crystal Form | 4H | |||
Région de Polytype | Aucun n'a laissé | Area≤5% | ||
(MPD) a | ≤0.2 /cm2 | ≤0.5 /cm2 | ≤5 /cm2 | |
Plats de sortilège | Aucun n'a laissé | Area≤5% | ||
Polycrystal hexagonal | Aucun n'a laissé | |||
Inclusions a | Area≤0.05% | Area≤0.05% | NON-DÉTERMINÉ | |
Résistivité | 0.015Ω•cm-0.025Ω•cm | 0.015Ω•cm-0.025Ω•cm | 0.014Ω•cm-0.028Ω•cm | |
(EPD) a | ≤4000/cm2 | ≤8000/cm2 | NON-DÉTERMINÉ | |
(TED) a | ≤3000/cm2 | ≤6000/cm2 | NON-DÉTERMINÉ | |
(Baril par jour) a | ≤1000/cm2 | ≤2000/cm2 | NON-DÉTERMINÉ | |
(DST) a | ≤600/cm2 | ≤1000/cm2 | NON-DÉTERMINÉ | |
(Défaut d'empilement) | Secteur de ≤0.5% | Secteur de ≤1% | NON-DÉTERMINÉ | |
Contamination extérieure en métal | (Al, Cr, Fe, Ni, Cu, Zn, Pb, Na, K, Ti, Ca, V, manganèse) cm2 ≤1E11 | |||
Caractéristiques mécaniques | ||||
Diamètre | 150,0 millimètres +0mm/-0.2mm | |||
Orientation extérieure | En dehors de l'axe : 4°toward <11-20>±0.5° | |||
Longueur plate primaire | 47,5 millimètres de ± 1,5 millimètres | |||
Longueur plate secondaire | Aucun appartement secondaire | |||
Orientation plate primaire | <11-20>±1° | |||
Orientation plate secondaire | NON-DÉTERMINÉ | |||
Misorientation orthogonal | ±5.0° | |||
Finition extérieure | C-visage : Polonais optique, SI-visage : CMP | |||
Bord de gaufrette | Tailler | |||
Aspérité (10μm×10μm) |
Visage Ra≤0.20 nanomètre de SI ; Visage Ra≤0.50 nanomètre de C | |||
Épaisseur a | μm 350.0μm± 25,0 | |||
LTV (10mm×10mm) a | ≤2μm | ≤3μm | ||
(TTV) a | ≤6μm | ≤10μm | ||
(ARC) a | ≤15μm | ≤25μm | ≤40μm | |
(Chaîne) a | ≤25μm | ≤40μm | ≤60μm | |
Caractéristiques extérieures | ||||
Puces/creux | Aucun n'a laissé la largeur et la profondeur de ≥0.5mm | Largeur et profondeur de Qty.2 ≤1.0 millimètre | ||
Éraflures a (Visage de SI, CS8520) |
≤5 et diamètre cumulatif de Length≤0.5×Wafer | ≤5 et diamètre cumulatif de gaufrette de Length≤1.5× | ||
TUA (2mm*2mm) | ≥98% | ≥95% | NON-DÉTERMINÉ | |
Fissures | Aucun n'a laissé | |||
Contamination | Aucun n'a laissé | |||
Exclusion de bord | 3mm | |||
4 H-N Type/gaufrette/lingots grande pureté sic
2 gaufrette/lingots de type n de pouce 4H sic
3 gaufrette de type n de pouce 4H sic 4 gaufrette/lingots de type n de pouce 4H sic 6 gaufrette/lingots de type n de pouce 4H sic |
gaufrette pureté semi-isolante/grande de 4H sic 2 gaufrette semi-isolante de pouce 4H sic
3 gaufrette semi-isolante de pouce 4H sic 4 gaufrette semi-isolante de pouce 4H sic 6 gaufrette semi-isolante de pouce 4H sic |
sic gaufrette 6H de type n
2 gaufrette/lingot de type n de pouce 6H sic |
Taille de Customzied pour 2-6inch
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>Emballage – Logistcs
nous concerne chacun des détails du paquet, nettoyage, antistatique, traitement de choc.
Selon la quantité et la forme du produit, nous prendrons un processus de empaquetage différent ! Presque par les cassettes de gaufrette ou la cassette 25pcs simples dans la pièce de nettoyage de 100 catégories.