Plan C (0001), plan A (11-20), plan R (1-102) ou personnalisé
Forme du substrat:
Rond, carré, rectangulaire ou personnalisé
Processus de métallisation:
Pulvérisation, évaporation ou autres procédés qualifiés
Couche d'adhésion:
Ti, Cr ou autres matériaux spécifiés
Couche barrière:
Ni, Pt ou autres matériaux, selon la conception
Capacité d'approvisionnement:
Par cas
Mettre en évidence:
Metallized sapphire substrates for RF devices
,
Microwave microelectronic sapphire substrates
,
Sapphire substrates with metallized coating
Description de produit
Product Overview Metallized sapphire substrates are functional substrate materials manufactured by depositing metallic thin films onto high-purity single-crystal sapphire (Al₂O₃). By combining the excellent electrical insulation, high hardness, chemical stability, and thermal stability of sapphire with the functional properties of metal films, these substrates provide a versatile solution for advanced electronic devices, RF components, optoelectronic systems, and semiconducto