Présentation du produit

Le substrat revêtu de saphir ITO est un matériau haute performance composé d'unplaquette de saphir monocristallin (Al₂O₃) recouverte d'un film mince conducteur transparent en oxyde d'étain et d'indium (ITO).

Cette combinaison intègre :

• Lerésistance mécanique et stabilité thermique exceptionnelles du saphir
• Leexcellente conductivité électrique et transparence optique de l'ITO

Par rapport aux substrats ITO à base de verre conventionnels, les solutions à base de saphir offrentdurabilité supérieure, plage de transmission optique plus large et meilleures performances dans les environnements difficiles, ce qui les rend idéaux pour les applications optoélectroniques avancées.

Structure et principe de fonctionnement

L'ITO (oxyde d'étain et d'indium) est unoxyde conducteur transparent (TCO)qui permet à la fois la conduction électrique et la transmission de la lumière.

La couche ITO est généralement déposée sur la surface du saphir en utilisant :

• Pulvérisation magnétron
• Évaporation par faisceau d'électrons
• Dépôt laser pulsé (PLD)

Principe de fonctionnement :

• Le revêtement ITO forme unfine couche conductrice
• Le saphir agit comme unsubstrat à haute transparence et à haute résistance
• Ensemble, ils fonctionnent comme unmatériau d'électrode transparent

Principales fonctionnalités

• Transmission optique élevée :≥85 % (plage visible)
• Faible résistance des tôles :5–100 Ω/□
• Excellente stabilité thermique :adapté aux processus à haute température
• Dureté exceptionnelle :Mohs 9 (résistant aux rayures)
• Transmission spectrale large :UV à IR
• Forte adhérence et durabilité du revêtement

Applications

Les substrats revêtus de saphir ITO sont largement utilisés dans :

• LED à base de GaN (électrodes transparentes)
• Photodétecteurs et capteurs UV
• Systèmes laser et fenêtres optiques
• Dispositifs optoélectroniques haute température
• MEMS et dispositifs microélectroniques
• Composants conducteurs transparents spécialisés

Spécifications typiques

Processus de fabrication

1. Polissage et nettoyage du substrat saphir
2. Dépôt sous vide de film mince ITO
3. Recuit thermique (pour optimiser la conductivité et la transparence)
4. Photolithographie et modelage en option
5. Contrôle final et emballage

FAQ

Q1 : Quel est l'avantage du saphir par rapport au verre pour le revêtement ITO ?
R : Le saphir offre une dureté nettement plus élevée, une meilleure résistance thermique et une plage de transmission optique plus large, ce qui le rend adapté aux environnements exigeants.

Q2 : Comment l’épaisseur de l’ITO affecte-t-elle les performances ?
UN:

• ITO plus épais → résistance inférieure mais transparence réduite
• ITO plus fin → transparence plus élevée mais résistance accrue

Q3 : Les électrodes à motifs peuvent-elles être fabriquées ?
R : Oui, des motifs personnalisés peuvent être obtenus grâce à des processus de photolithographie et de gravure.

Q4 : Le revêtement double face est-il disponible ?
R : Oui, des revêtements ITO simple face et double face peuvent être fournis en fonction des exigences de l'application.