| Nom De Marque: | ZMSH |
| MOQ: | 1 |
| Prix: | by case |
| Détails De L'emballage: | Cartons personnalisés |
| Conditions De Paiement: | T/T |
La plaquette de carbure de silicium (SiC) de 12 pouces représente la prochaine génération de substrats semi-conducteurs à large bande interdite, conçus pour soutenir la production à grande échelle de dispositifs électroniques de puissance haute performance. Comparé aux plaquettes de SiC conventionnelles de 6 et 8 pouces, le format de 12 pouces augmente considérablement la surface de puce utilisable par plaquette, améliore l'efficacité de la fabrication et offre un fort potentiel de réduction des coûts à long terme.
Le carbure de silicium est un matériau semi-conducteur à large bande interdite présentant une résistance élevée au champ électrique de claquage, une excellente conductivité thermique, une vitesse de dérive des électrons saturée élevée et une stabilité thermique exceptionnelle. Ces propriétés font des plaquettes de SiC de 12 pouces une plateforme idéale pour les applications haute tension, haute puissance et haute température.
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Matériau: Carbure de silicium (SiC) monocristallin
Polytype: 4H-SiC (standard pour les dispositifs de puissance)
Type de conductivité:
Type N (dopé à l'azote)
Semi-isolant (personnalisable)
La croissance de monocristaux de SiC de 12 pouces nécessite un contrôle avancé des gradients de température, de la répartition des contraintes et de l'incorporation d'impuretés. La technologie améliorée de croissance cristalline PVT (Physical Vapor Transport) est généralement employée pour obtenir des boules de SiC de grand diamètre et à faible défaut.
La production de plaquettes de SiC de 12 pouces implique une série de processus de haute précision :
Croissance de monocristaux de grand diamètre
Orientation des cristaux et découpe des lingots
Rectification de précision et amincissement des plaquettes
Polissage simple face ou double face
Nettoyage avancé et inspection complète
Chaque étape est étroitement contrôlée pour garantir une excellente planéité, une uniformité de l'épaisseur et une qualité de surface.
Rendement de dispositif plus élevé par plaquette: Une plus grande taille de plaquette permet d'obtenir plus de puces par lot
Efficacité de fabrication améliorée: Optimisé pour les usines de nouvelle génération
Potentiel de réduction des coûts: Coût par dispositif inférieur en production à volume élevé
Performances thermiques et électriques supérieures: Idéal pour les conditions de fonctionnement difficiles
Forte compatibilité des processus: Adapté à la fabrication de dispositifs de puissance SiC grand public
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Véhicules électriques (MOSFET SiC, diodes Schottky SiC)
Chargeurs embarqués (OBC) et onduleurs de traction
Infrastructure de recharge rapide et modules d'alimentation
Onduleurs solaires et systèmes de stockage d'énergie
Entraînements de moteurs industriels et systèmes ferroviaires
Électronique de puissance haut de gamme et applications de défense
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| Article | Type N Qualité de production (P) | Type N Qualité factice (D) | Type SI Qualité de production (P) |
|---|---|---|---|
| Polytype | 4H | 4H | 4H |
| Type de dopage | Type N | Type N | / |
| Diamètre | 300 ± 0,5 mm | 300 ± 0,5 mm | 300 ± 0,5 mm |
| Épaisseur | Vert : 600 ± 100 µm / Blanc-transparent : 700 ± 100 µm | Vert : 600 ± 100 µm / Blanc-transparent : 700 ± 100 µm | Vert : 600 ± 100 µm / Blanc-transparent : 700 ± 100 µm |
| Orientation de la surface (hors coupe) | 4° vers ± 0,5° |
4° vers ± 0,5° |
4° vers ± 0,5° |
| ID de la plaquette / Plat principal | Encoche (plaquette entièrement ronde) | Encoche (plaquette entièrement ronde) | Encoche (plaquette entièrement ronde) |
| Profondeur de l'encoche | 1,0 – 1,5 mm | 1,0 – 1,5 mm | 1,0 – 1,5 mm |
| TTV (Variation totale d'épaisseur) | ≤ 10 µm | NA | ≤ 10 µm |
| MPD (Densité des micropipes) | ≤ 5 ea/cm² | NA | ≤ 5 ea/cm² |
| Résistivité | Zone de mesure : Zone centrale de 8 pouces | Zone de mesure : Zone centrale de 8 pouces | Zone de mesure : Zone centrale de 8 pouces |
| Traitement de surface côté Si | CMP (Poli) | Rectification | CMP (Poli) |
| Traitement des bords | Chanfrein | Pas de chanfrein | Chanfrein |
| Éclats de bord (admissibles) | Profondeur des éclats < 0,5 mm | Profondeur des éclats < 1,0 mm | Profondeur des éclats < 0,5 mm |
| Marquage laser | Marquage côté C / Selon les exigences du client | Marquage côté C / Selon les exigences du client | Marquage côté C / Selon les exigences du client |
| Zone polytype (lumière polarisée) | Pas de polytype (exclusion des bords de 3 mm) | Zone de polymorphisme < 5 % (exclusion des bords de 3 mm) | Pas de polytype (exclusion des bords de 3 mm) |
| Fissures (lumière de haute intensité) | Pas de fissures (exclusion des bords de 3 mm) | Pas de fissures (exclusion des bords de 3 mm) | Pas de fissures (exclusion des bords de 3 mm) |
Q1 : Les plaquettes de SiC de 12 pouces sont-elles prêtes pour la production de masse ?
R : Les plaquettes de SiC de 12 pouces en sont actuellement au stade initial de l'industrialisation et sont activement évaluées pour la production pilote et en volume par les principaux fabricants du monde entier.
Q2 : Quels sont les avantages des plaquettes de SiC de 12 pouces par rapport aux plaquettes de 8 pouces ?
R : Le format de 12 pouces augmente considérablement le rendement des puces par plaquette, améliore le débit de l'usine et offre des avantages en termes de coûts à long terme.
Q3 : Les spécifications des plaquettes peuvent-elles être personnalisées ?
R : Oui, des paramètres tels que le type de conductivité, l'épaisseur, la méthode de polissage et le grade d'inspection peuvent être personnalisés.