Nom De Marque: | ZMSH |
Numéro De Modèle: | 4 pouces |
MOQ: | 10 |
Prix: | 5 USD |
Détails De L'emballage: | cartons sur mesure |
Conditions De Paiement: | T/T |
Les plaquettes épitaxiales SiC de 4 pouces (100 mm) continuent de jouer un rôle essentiel sur le marché des semi-conducteurs.constituant une plateforme hautement mature et fiable pour les fabricants d'électronique de puissance et de dispositifs RF dans le monde entierLa taille de la galette de 4 ′′ offre un excellent équilibre entre performance, disponibilité et rentabilité, ce qui en fait le choix principal de l'industrie pour la production de volume moyen à élevé.
Les plaquettes épitaxiales SiC sont constituées d'une fine couche de carbure de silicium contrôlée avec précision déposée sur un substrat monocristallin SiC de haute qualité.excellente qualité cristallineAvec une large bande passante (3,2 eV), un champ électrique critique élevé (~ 3 MV/cm) et une conductivité thermique élevée,Les plaquettes épitaxales 4 ̊ SiC permettent des dispositifs qui surpassent le silicium en haute tension, à haute fréquence et à haute température.
De nombreuses industries, allant des véhicules électriques à l'énergie solaire et aux moteurs industriels, continuent de s'appuyer sur des plaquettes épitaxales 4 SiC pour fabriquer des appareils électroniques de puissance efficaces, robustes et compacts.
La production de plaquettes épitaxales 4 ̊ SiC implique une production hautement contrôlée.Dépôt de vapeur chimique (CVD)procédé:
Préparation du substrat
Les substrats de haute pureté 4 ‰ 4H-SiC ou 6H-SiC subissent un polissage chimique-mécanique avancé (CMP) pour créer des surfaces atomiquement lisses, minimisant les défauts pendant la croissance épitaxienne.
Croissance de la couche épitaxienne
Dans les réacteurs CVD, des gaz tels que le silane (SiH4) et le propane (C3H8) sont introduits à des températures élevées (~1600~1700 °C). Ces gaz se décomposent et se déposent sur le substrat,formant une nouvelle couche cristalline de SiC.
Dopage contrôlé
Des dopants tels que l'azote (de type n) ou l'aluminium (de type p) sont soigneusement introduits pour ajuster les propriétés électriques telles que la résistivité et la concentration du support.
Surveillance de précision
La surveillance en temps réel assure un contrôle strict de l'uniformité de l'épaisseur et des profils de dopage sur l'ensemble de la plaque 4 ̊.
Contrôle de la qualité après traitement
Les plaquettes finies sont soumises à des tests rigoureux:
Microscopie de la force atomique (AFM) pour la rugosité de la surface
Spéctroscopie Raman pour les contraintes et les défauts
Diffraction par rayons X (XRD) pour la qualité cristallographique
Photoluminescence pour la cartographie des défauts
Mesures de la courbe/de la courbe
4 pouces de diamètre de carbure de silicium (SiC) Spécification du substrat | |||||||||
Grade | Nul degré MPD | Grade de production | Grade de recherche | Grade de factice | |||||
Diamètre | 100. mm±0,5 mm | ||||||||
Épaisseur | 350 μm±25 μm ou 500±25 μm Ou autre épaisseur personnalisée | ||||||||
Orientation de la gaufre | En dehors de l'axe : 4,0° vers < 1120> ± 0,5° pour 4H-N/4H-SI Sur l'axe : < 0001> ± 0,5° pour 6H-N/6H-SI/4H-N/4H-SI | ||||||||
Densité des micropipes | ≤ 0 cm2 | ≤ 1 cm2 | ≤ 5 cm-2 | ≤ 10 cm-2 | |||||
Résistance | 4H-N | 00,015 à 0,028 Ω•cm | |||||||
6H-N | 00,02 à 0,1 Ω•cm | ||||||||
4/6H-SI | ≥ 1E5 Ω·cm | ||||||||
Le premier appartement | {10-10} ± 5,0° | ||||||||
Longueur plate primaire | 18.5 mm±2,0 mm | ||||||||
Longueur plate secondaire | 10.0 mm±2,0 mm | ||||||||
Orientation à plat secondaire | Sicile face vers le haut: 90° CW. de la plaine principale ±5,0° | ||||||||
Exclusion des bords | 1 mm | ||||||||
TTV/Bow/Warp | Pour les appareils de traitement des eaux usées | ||||||||
Roughness (graisseuse) | Ra≤1 nm polonais | ||||||||
CMP Ra≤0,5 nm | |||||||||
Les fissures dues à la lumière de haute intensité | Aucune | 1 permis, ≤ 2 mm | Longueur cumulée ≤ 10 mm, longueur unique ≤ 2 mm | ||||||
Plaques hexagonales par haute intensité lumineuse | Surface cumulée ≤ 1% | Surface cumulée ≤ 1% | Surface cumulée ≤ 3% | ||||||
Zones de polytypes par intensité lumineuse | Aucune | Surface cumulée ≤ 2% | Surface cumulée ≤ 5% | ||||||
Écorchures par la lumière de haute intensité | 3 rayures à 1 × longueur cumulée du diamètre de la wafer | 5 rayures à 1 × longueur cumulée du diamètre de la plaque | 5 rayures à 1 × longueur cumulée du diamètre de la plaque | ||||||
puce de bordure | Aucune | 3 sont autorisés, ≤ 0,5 mm chacun | 5 permis, ≤ 1 mm chacune |
Les plaquettes épitaxales de SiC permettent la production en série de dispositifs de puissance fiables dans des secteurs tels que:
Véhicules électriques (VE)
Invertisseurs de traction, chargeurs embarqués et convertisseurs CC/CC.
Énergie renouvelable
Des onduleurs solaires, des convertisseurs d'énergie éolienne.
Les moteurs industriels
Des moteurs efficaces, des servos.
Infrastructure 5G/RF
Amplificateurs de puissance et commutateurs RF.
Produits électroniques de consommation
Des sources d'alimentation compactes et efficaces.
1Pourquoi choisir les plaquettes épitaxielles SiC au lieu du silicium?
Le SiC offre une plus grande tolérance à la tension et à la température, permettant des appareils plus petits, plus rapides et plus efficaces.
2. Quel est le poly-type de SiC le plus courant?
Le 4H-SiC est le choix préféré pour la plupart des applications de haute puissance et RF en raison de son large espace de bande et de sa grande mobilité électronique.
3Le profil de dopage peut-il être personnalisé?
Oui, le niveau de dopage, l'épaisseur et la résistivité peuvent être entièrement adaptés aux besoins de l'application.
4Un délai de livraison typique?
Le délai de livraison standard est de 4 à 8 semaines, en fonction de la taille de la galette et du volume de la commande.
5Quels contrôles de qualité sont effectués?
Tests complets, y compris AFM, XRD, cartographie des défauts, analyse de la concentration du transporteur.
6Ces plaquettes sont-elles compatibles avec les équipements de fabrication en silicium?
La plupart du temps, oui; des ajustements mineurs sont nécessaires en raison de la dureté et des propriétés thermiques différentes du matériau.
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