Nom De Marque: | ZMSH |
Numéro De Modèle: | plaquettes sic |
Conditions De Paiement: | T/T |
SiC Substrate 4H/6H-P 3C-N 45,5 mm à 150,0 mm Z Grade P Grade D Grade
La présente étude étudie les propriétés structurelles et électroniques des substrats de carbure de silicium (SiC) de polytypes 4H/6H intégrés à des films SiC 3C-N cultivés par épitaxie.La transition polytypique entre le 4H/6H-SiC et le 3C-N-SiC offre des opportunités uniques d'améliorer les performances des dispositifs semi-conducteurs à base de SiCPar dépôt de vapeur chimique à haute température (CVD), des films 3C-SiC sont déposés sur des substrats 4H/6H-SiC, dans le but de réduire le déséquilibre du réseau et les densités de dislocation.Analyse détaillée par diffraction par rayons X (XRD), la microscopie par force atomique (AFM) et la microscopie électronique par transmission (TEM) révèlent l'alignement épitaxial et la morphologie de surface des films.Les mesures électriques indiquent une mobilité améliorée du support et une tension de panne, ce qui rend cette configuration de substrat prometteuse pour les applications électroniques de haute puissance et haute fréquence de nouvelle génération.L'étude souligne l'importance d'optimiser les conditions de croissance pour minimiser les défauts et renforcer la cohérence structurelle entre les différents polytypes de SiC.
Les substrats de carbure de silicium (SiC) de polytypes 4H/6H (P) avec des films de SiC 3C-N (dopés d'azote) présentent une combinaison de propriétés qui sont bénéfiques pour diverses applications de haute puissance, de haute fréquence,et applications à haute températureVoici les principales propriétés de ces matériaux:
Ces propriétés font de la combinaison de 4H/6H-P et de 3C-N SiC un substrat polyvalent pour un large éventail d'applications électroniques, optoélectroniques et à haute température avancées.
La combinaison de substrats 4H/6H-P et 3C-N SiC a une gamme d'applications dans plusieurs industries, en particulier dans les appareils à haute puissance, à haute température et à haute fréquence.Voici quelques-unes des principales applications:
Ces applications mettent en évidence la polyvalence et l'importance des substrats 4H/6H-P 3C-N SiC pour faire progresser la technologie moderne dans une gamme d'industries.
Quelle est la différence entre 4H-SiC et 6H-SiC?
En bref, lors du choix entre 4H-SiC et 6H-SiC: Optez pour 4H-SiC pour les appareils électroniques à haute puissance et haute fréquence où la gestion thermique est essentielle.Choisir le 6H-SiC pour les applications privilégiant l'émission lumineuse et la durabilité mécanique, y compris les LED et les composants mécaniques.
Mots clés: SiC Substrate SiC plaque de carbure de silicium plaque de silicium