logo
Bon prix  en ligne

Détails des produits

Created with Pixso. Maison Created with Pixso. Produits Created with Pixso.
Sapphire Tube
Created with Pixso.

Goupille de levage en saphir pour la manipulation des plaquettes de semi-conducteurs

Goupille de levage en saphir pour la manipulation des plaquettes de semi-conducteurs

Nom De Marque: ZMSH
MOQ: 2
Prix: 20USD
Détails De L'emballage: cartons personnalisés
Conditions De Paiement: T/T
Les informations détaillées
Lieu d'origine:
Chine
Capacité d'approvisionnement:
Par cas
Mettre en évidence:

Manipulation des semi-conducteurs à broches de levage en saphir

,

broches de manipulation des plaquettes en saphir

,

broches de levage des plaquettes à semi-conducteurs

Description de produit

Présentation du produit

UNGoupille de levage saphirest un composant de précision fabriqué à partir de saphir monocristallin de haute pureté (Al₂O₃). Il est conçu pour le levage, le positionnement et le transfert de plaquettes dans les équipements de traitement des semi-conducteurs. Les broches de levage en saphir sont largement utilisées dans les systèmes CVD, PECVD, PVD, MOCVD, RTP, de diffusion, de gravure et d'épitaxie, où la résistance aux températures élevées, la stabilité chimique et les performances ultra-propres sont essentielles.

Grâce à la résistance mécanique et à l'usure exceptionnelles du saphir, ces broches de levage contribuent à minimiser la génération de particules tout en garantissant une manipulation précise des tranches tout au long des processus de fabrication de semi-conducteurs.


Principales fonctionnalités

Saphir monocristallin de haute pureté

Fabriqué à partir de saphir monocristallin de qualité optique haut de gamme, offrant une excellente pureté, résistance mécanique et fiabilité à long terme dans les environnements semi-conducteurs exigeants.

Résistance exceptionnelle aux hautes températures

Le saphir conserve une excellente stabilité dimensionnelle et des propriétés mécaniques à des températures élevées, ce qui le rend adapté aux équipements de dépôt, de recuit et de traitement thermique à haute température.

Excellente résistance aux produits chimiques et au plasma

Le matériau présente une résistance exceptionnelle aux gaz de processus corrosifs, aux environnements plasmatiques et aux produits chimiques agressifs, prolongeant considérablement la durée de vie des composants.

Génération de particules ultra-faible

Avec une dureté Mohs de 9 et une résistance à l'usure exceptionnelle, les broches de levage en saphir réduisent la contamination par les particules induite par la friction, contribuant ainsi à améliorer le rendement des plaquettes et la cohérence du processus.

Fabrication de haute précision

Chaque goupille de levage est usinée, polie et inspectée avec précision pour répondre aux normes strictes de l'industrie des semi-conducteurs en matière de précision dimensionnelle et de finition de surface.


Spécifications typiques

Article Spécification
Matériel Saphir monocristallin (Al₂O₃)
Pureté ≥99,99 %
Orientation des cristaux Plan C, plan A, plan R ou personnalisé
Diamètre Personnalisé disponible
Longueur Personnalisé disponible
Tolérance de diamètre Personnalisable
Finition de surface Poli avec précision
Rugosité de la surface Ra ≤0,02 μm (facultatif)
Forme d'extrémité Plat, arrondi, conique ou personnalisé
Température de travail Convient au traitement à haute température
Style de montage Ajustement serré, fileté ou personnalisé

Des dimensions et tolérances personnalisées sont disponibles sur demande.


Applications

Les broches de levage Sapphire sont largement utilisées dans :

  • Équipement de traitement de plaquettes semi-conductrices
  • Dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
  • CVD amélioré par plasma (PECVD)
  • Dépôt physique en phase vapeur (PVD)
  • CVD métal-organique (MOCVD)
  • Traitement thermique rapide (RTP)
  • Fours à diffusion
  • Systèmes de gravure plasma
  • Matériel d'épitaxie
  • Fabrication de semi-conducteurs SiC et GaN
  • Production de plaquettes LED

Avantages des broches de levage Sapphire

  • Excellente stabilité thermique sous traitement à haute température
  • Dureté et résistance à l'usure supérieures (dureté Mohs 9)
  • Résistance exceptionnelle à la corrosion chimique et plasmatique
  • Génération de particules ultra-faible pour les applications en salle blanche
  • Isolation électrique élevée
  • Longue durée de vie avec une maintenance réduite
  • Excellente stabilité dimensionnelle pour un positionnement précis des plaquettes

 

 

 

Questions fréquemment posées (FAQ)

1. Qu'est-ce qu'une goupille de levage en saphir ?

Une broche de levage en saphir est un composant de précision fabriqué à partir de saphir monocristallin (Al₂O₃) utilisé pour soulever, soutenir et positionner des tranches semi-conductrices pendant les processus de fabrication. Il est couramment installé dans les équipements CVD, PVD, PECVD, MOCVD, RTP et de gravure où des températures élevées, une résistance chimique et une faible génération de particules sont requises.

 

2. Pourquoi le saphir est-il utilisé pour les broches de levage ?

Le saphir offre plusieurs avantages par rapport aux matériaux céramiques ou métalliques conventionnels, notamment :

  • Excellente stabilité à haute température
  • Résistance supérieure à l’usure (dureté Mohs 9)
  • Faible génération de particules
  • Résistance exceptionnelle aux produits chimiques et au plasma
  • Isolation électrique élevée
  • Longue durée de vie

Ces propriétés font du saphir un matériau idéal pour la manipulation précise des plaquettes.

 

 

3. Quel équipement semi-conducteur utilise des broches de levage en saphir ?

Les broches de levage en saphir sont largement utilisées dans :

  • Systèmes CVD
  • Systèmes PECVD
  • Équipement PVD
  • Réacteurs MOCVD
  • Systèmes RTP
  • Fours à diffusion
  • Équipement de gravure au plasma
  • Systèmes d'inspection et de manipulation des plaquettes
  • Équipements de fabrication de semi-conducteurs SiC et GaN