5G a vu le substrat de semi-conducteur d'AlN de monocristal du diamètre 10mm
Détails sur le produit:
Lieu d'origine: | La Chine |
Nom de marque: | ZMKJ |
Numéro de modèle: | Monocristal UTI-AlN-10x10 |
Conditions de paiement et expédition:
Quantité de commande min: | 1PCS |
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Prix: | by case |
Détails d'emballage: | conteneur simple de gaufrette dans la chambre de nettoyage |
Délai de livraison: | dans 30days |
Conditions de paiement: | T/T, Western Union, Paypal |
Capacité d'approvisionnement: | 10pcs/month |
Détail Infomation |
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matériel: | Cristal d'AlN | épaisseur: | 400um |
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Orientation: | 0001 | application: | puissance élevée/appareils électroniques à haute fréquence |
application 2: | dispositifs de 5G saw/BAW | Ra: | 0.5nm |
surface polie: | CMP de visage d'Al, MP de N-visage | type en cristal: | 2H |
Surligner: | substrat d'aln du diamètre 10mm,5G a vu le substrat de semi-conducteur,substrat d'aln de monocristal |
Description de produit
10x10mm ou diamètre 10mm dia25.4mm dia30mm, dia45mm, gaufrettes de monocristal d'AlN de substrat de dia50.8mm AlN
Applications de Calibre d'AlN
la technologie des semiconducteurs basée sur silicium a atteint ses limites et n'a pas pu répondre aux exigences de l'avenir
appareils électroniques. Comme genre typique de matériel du semi-conducteur 3rd/4th-generation, la nitrure en aluminium (AlN) a
les propriétés physiques et chimiques supérieures telles que le bandgap large, conduction thermique élevée, panne élevée ont classé,
la tenue électronique élevée à mobilité et à corrosion/rayonnements, et est un substrat parfait pour les dispositifs optoélectroniques,
appareils électroniques de dispositifs de la radiofréquence (rf), de haute puissance/à haute fréquence, etc… en particulier, substrat d'AlN est
le meilleur candidat pour UV-LED, détecteurs UV, lasers UV, dispositifs RF de haute puissance/à haute fréquence de 5G et 5G SAW/BAW
dispositifs, qui pourraient largement être répandus dans la protection de l'environnement, l'électronique, communications sans fil, impression,
champs de biologie, de soins de santé, militaires et autre, tels que la purification/stérilisation UV, traitement UV, photocatalysis, coun ?
détection de terfeit, stockage à haute densité, communication médicale phototherapy, de drogue de découverte, sans fil et protégée,
détection aérospatiale/profond-espace et d'autres champs.
nous avons développé des publications périodiques des processus et des technologies de propriété industrielle pour fabriquer
calibres de haute qualité d'AlN. Actuellement, notre OEM est la seule société dans le monde entier qui peut produire 2-6 pouce AlN
calibres dans la capacité à grande échelle de production industrielle avec la capacité de 300 000 morceaux en 2020 de rencontrer explosif
demande du marché de la communication UVC-LED, 5G sans fil, des détecteurs UV et des capteurs etc.
Nous fournissons actuellement à des clients l'azote de haute qualité normalisé de 10x10mm/Φ10mm/Φ15mm/Φ20mm/Φ25.4mm/Φ30mm/Φ50.8mm
En aluminium les produits de substrat de monocristal, et peut également fournir à des clients 10-20mm non polaire
substrat de monocristal de nitrure en aluminium de M-avion, ou adapter 5mm-50.8mm aux besoins du client non standard aux clients
Substrat poli de monocristal de nitrure en aluminium. Ce produit est très utilisé comme matériel à extrémité élevé de substrat
Utilisé dans des puces d'UVC-LED, des détecteurs UV, des lasers UV, et la diverse puissance élevée
la température de /High/gisement à haute fréquence d'appareil électronique.
En aluminium les produits de substrat de monocristal, et peut également fournir à des clients 10-20mm non polaire
substrat de monocristal de nitrure en aluminium de M-avion, ou adapter 5mm-50.8mm aux besoins du client non standard aux clients
Substrat poli de monocristal de nitrure en aluminium. Ce produit est très utilisé comme matériel à extrémité élevé de substrat
Utilisé dans des puces d'UVC-LED, des détecteurs UV, des lasers UV, et la diverse puissance élevée
la température de /High/gisement à haute fréquence d'appareil électronique.
Spécifications caractéristiques
- Modèle Cristal d'UTI-AlN-10x10B-single
- Diamètre 10x10±0.5mm ;
- Épaisseur de substrat (µm) 400 ± 50
- Orientation C-axe [0001] +/- 0.5°
Classe de qualité S-catégorie (superbe) P-catégorie (production) R-catégorie (recherche)
- Fissures Aucun Aucun <3mm>
- FWHM-2θXRD@ (0002)<150><300> 0
- FWHM-HRXRD@ (10-12)<100><200> 0
- Aspérité [5×5µm] (nanomètre) CMP d'Al-visage<0>
- Secteur utilisable 90%
- Absorbance<50>
- 1er de l'orientation de longueur {10-10} ±5° ;
- TTV (µm) ≤30
- Arc (µm) ≤30
- Chaîne (µm) -30~30
- Note : Ces résultats de caractérisation peuvent varier légèrement selon les équipements et/ou le logiciel utilisés
élément d'impureté Fe de Na W.P.S Ti de C O SI B
PPMW 27 90 5,4 0,92 0,23 <0>
Structure cristalline |
Wurtzite |
Constante de trellis (Å) | a=3.112, c=4.982 |
Conduction à bande | Bandgap direct |
Densité (g/cm3) | 3,23 |
Microdureté extérieure (essai de Knoop) | 800 |
Point de fusion (℃) | 2750 (barre 10-100 en N2) |
Conduction thermique (W/m·K) | 320 |
Énergie d'espace de bande (eV) | 6,28 |
Mobilité des électrons (V·s/cm2) | 1100 |
Champ électrique de panne (MV/cm) | 11,7 |
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